Fueiceel® FC4d低内阻流动池电解槽（4cm2, 电极间距2mm，专利产品）说明
产品简介
Fueiceel® FC4d 流动池电解槽是一款专为流动相气体扩散电解池研究设计的高性能电解槽，电极间距标准设置为2mm，无需垫片，极大优化了电化学反应中的槽压性能。相比传统流动池（电极间距大于20mm），FC4d在能耗和性能上均具有显著优势，且支持进一步缩小电极间距（至1mm或更低）以满足特殊研究需求。
注：本品为专利产品，如需在文章中展示，请务必著名出处，避免侵犯版权和误导他人侵犯版权。
引用范例：A patented low resistance flow cell (Fueiceel® FC4d 4cm2 cell) was obtained from SCI Materials Hub.
产品特点与优势
极小的电极间距
支持多种参比电极
耐腐蚀集流体材料
便捷的组装设计
应用领域
流动相电化学研究
气体扩散电极反应研究
低槽压条件下的电催化反应探索
高性能能源转换与储能研究
技术参数一览
标准电极间距：2mm（无垫片）
可选电极间距：1mm或更低（根据用户要求定制）
参比电极适配：Φ4mm和Φ6mm
阳极集流体：钛材
阴极集流体：不锈钢
产品适用性
Fueiceel® FC4d 流动池电解槽在保持高效率反应的同时，提供了灵活的配置方案，是气体扩散电解池研究的理想选择。其独特的设计与材料选用为电化学研究提供了高精度和高稳定性的技术保障。
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